Name: Objetivo de tantalio
Brand: Baoji City Changsheng Titanium Co., Ltd.

Objetivo de pulverización de tantalio

Material:RO5200, RO5400, RO5252(Ta-2.5W), RO5255(Ta-10W)

Tamaño:

Objetivos circulares: diámetro 15mm hasta 400mm x espesor 3mm hasta 28mm
Objetivos rectangulares: espesor 1mm hasta 40mm x ancho hasta 1000mm x longitud hasta 3000mm

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Especificación

Grado	3N, 3N5, 4N, con Ta 99.99% min
Recristalización	95% min
Tamaño del grano	ASTM 4 o más fino
Acabado superficial	16Rms máx. o Ra 0,4 (RMS64 o mejor)
Plasa	0,1mm o 0.15% Max
Tolerancia	+/-0.010 "en todas las dimensiones

Aplicación

Tantalio Sputtering Target se suelda con cobre de nuevo objetivo, y luego se lleva a cabo la pulverización de semiconductores u óptica para depositar átomos de tantalio en el material del sustrato para realizar el recubrimiento de pulverización. Los objetivos de tantalio se utilizan principalmente en revestimiento de semiconductores, revestimiento óptico y otras industrias. En la industria de los semiconductores, el metal (Ta) se utiliza actualmente para formar una capa de barrera por deposición física de vapor (PVD).

Ventajas

Pureza alta:Con un nivel de pureza superior al 99.97%, los objetivos de pulverización de tantalio de Changsheng Titanium garantizan una contaminación mínima, lo que lleva a la producción de productos confiables y de alta calidad.

Densidad máxima:Estos objetivos de pulverización de tantalio cuentan con una densidad máxima de más de 98%. Esta alta densidad garantiza una pulverización eficiente, que es crucial para mejorar la calidad de la deposición de la película delgada.

Microestructura homogénea y composición química:Los objetivos de pulverización de tantalio de Changsheng Titanium exhiben una microestructura homogénea y una composición química. Esta uniformidad garantiza velocidades de pulverización constante, lo que lleva a una deposición uniforme de película delgada, que es vital para el rendimiento del producto final.

Tantalio Sputtering serie de aleación objetivo

Además del objetivo de pulverización de tantalio, también podemos proporcionar Aleación de tantalio-silicio, aleación de tantalio-aluminio, aleación de tantalio-tungsteno, aleación de níquel-tantalio, aleación de cobalto-circonio-tantalio, nitruro de tantalio, carburo de tantalio, boruro de tantalio, pentóxido de tantalio y otros objetivos de pulverización catódica.