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Se instala un objetivo de pulverización de titanio en la máquina de deposición al vacío para el recubrimiento. Se puede revestir con película conductora, película aislante, película decorativa, película superdura, película lubricante, película magnética y otras películas funcionales. Es un material utilizado para fabricar películas delgadas utilizando la tecnología de deposición por pulverización catódica o deposición de película delgada. En este proceso, el material objetivo de pulverización comienza como un sólido, que se descompone en pequeñas partículas mediante iones de gas, formando un aerosol y cubriendo otro material. Si desea saber más sobre el disco objetivo de pulverización de titanio, no dude en ponerse en contacto con el ChangshengProveedor de tubos de titanio...
Tipo | Material | Pureza |
Objetivo de metal | W, Mo, Zr, Ta, Nb, Ni, Ti, Cr, Al, Cu, Si, Hf | 2N5-5N 99.5%-99.999% |
Objetivo de aleación | Ti-Al (50: 50at %, 80: 20at %, 70: 30at %, 60: 40at % 33: 67at %) , Si-Al (90: 10% en peso, 70: 30% en peso, 50: 50% en peso) Cr-Al (30: 70at %, 50: 50at %, 70: 30at %) Cr-Si (50: 50% en peso) W-Ti (90: 10% en peso) Ni-Cr (80: 20% en peso) Ti-Zr, Ti-Si, Ti-Nb, Nb-Zr, Nb-W-Zr, Ti-Al-Si | > 99.9% |
Forma | Tamaño general | Dibujo |
Disco/arco múltiple | Diámetro 60/65/95/100*30/32/40/45mm | Otros tamaños pueden ser personalizados |
Plano/plano | Amplio Max 300mm, longitud max3000mm | |
Rotatorio/tubular | OD70 x Wt7 x L mm OD80XWt8XL mm OD127 x ID105 x L mm OD146 x ID136 x L mm OD219 x ID194 x L mm OD300 x ID155 x L mm |
Vidrio arquitectónico, coche usando vidrio, campo de visualización gráfica
Campo electrónico y semiconductor
Campo de decoración y molde
Materiales de revestimiento óptico
Industria solar fotovoltaica
Revestimiento resistente al desgaste
Polvo metalurgia (CADERA)
Procesamiento de fusión (fusión, forja, perforación, mecanizado)
Pulverización térmica
Vinculación de objetivos
Espectroscopia de emisión
Espectrometría de plasma de acoplamiento directo
Espectrometría de absorción atómica
Microscopía Electrónica de Barrido
Difracción DE RAYOS X
Alta ductilidad:La alta ductilidad de estos objetivos de pulverización de titanio permite que se moldeen y moldeen en varias formas sin romperse ni agrietarse, lo que proporciona flexibilidad en su uso.
Conductividad térmica excelente:Los objetivos de pulverización de titanio de Changsheng Titanium exhiben una excelente conductividad térmica, lo que garantiza una disipación de calor eficiente, que es crucial para mantener la longevidad y el rendimiento del equipo en el que se utilizan.
Microestructura óptima, homogénea:Los objetivos de pulverización de Titanio tienen una microestructura óptima y homogénea que garantiza velocidades de pulverización constante, lo que lleva a una deposición de película delgada de alta calidad.
Pureza material más alta:Changsheng Titanium garantiza la mayor pureza de material en sus objetivos de pulverización de titanio. Este alto nivel de pureza reduce el riesgo de contaminación, asegurando la producción de productos confiables y de alta calidad.
Pureza:El objetivo de pulverización de titanio debe tener un alto nivel de pureza, típicamente por encima de 99.99%, para garantizar un rendimiento óptimo durante el proceso de pulverización.
Contenido de la impureza:El contenido de impurezas en el objetivo de pulverización de titanio debe minimizarse. Cualquier impureza puede afectar negativamente el proceso de pulverización catódica y la calidad de la película delgada producida.
Densidad:El objetivo de pulverización de titanio debe tener una alta densidad, cercana a la densidad teórica del titanio. Un objetivo de alta densidad garantiza un pulverización uniforme y una película delgada consistente.
Tamaño del grano:
Distribución del tamaño del grano:Changsheng Titanium utiliza procesos de fabricación avanzados para controlar la distribución del tamaño de grano en el objetivo de pulverización de titanio, asegurando los objetivos de la más alta calidad para nuestros clientes.
En ChangSheng Titanium, nos especializamos en la producción de objetivos de pulverización de titanio personalizados diseñados para satisfacer las necesidades específicas de aplicaciones comerciales y de investigación. Nuestra experiencia se extiende a crear composiciones únicas para nuevas tecnologías patentadas, asegurando un rendimiento y una eficiencia óptimos. Ya sea que necesite especificaciones estándar o personalizadas, nuestros objetivos de titanio de alta calidad están diseñados para ofrecer resultados excepcionales.
No.26 Baotai Road, Weibin District, Baoji City, Shaanxi, China.
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