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Changsheng Titanium fabrica una gama de objetivos fabricados con tungsteno (W), molibdeno (Mo), niobio (Nb) y tantalio (Ta). Estos se utilizan en procesos de deposición física de vapor (PVD) y deposición química de vapor (CVD) para aplicaciones de recubrimiento de película delgada. Entre ellos,Objetivo de pulverización de molibdenoYObjetivo de pulverización de niobioSon productos populares.
Mo, Nb y Ta exhiben una alta inercia química, lo que garantiza que no reaccionen con los gases de proceso o los materiales utilizados en la deposición de película delgada. Esta inercia ayuda a mantener la integridad del objetivo y la pureza de la película.
Los objetivos W, Mo, Nb y Ta se pueden fabricar en varias formas, como objetivos planos o rotativos, para adaptarse a diferentes sistemas y requisitos de deposición.
W, Mo, Nb y Ta tienen puntos de fusión excepcionalmente altos, lo que los hace adecuados para procesos que implican altas temperaturas, como la deposición física de vapor (PVD). y deposición química de vapor (CVD).
El tungsteno y el cobre tienen una alta conductividad térmica, lo que ayuda en la deposición uniforme de la película y la disipación de calor durante la pulverización catódica.
No.26 Baotai Road, Weibin District, Baoji City, Shaanxi, China.
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